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[보고서] 이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)jo

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작성일 23-01-28 11:12

본문

„. 이온침탄의 특징

② 전처리 및 침탄 방지가 간단하고 표면이 광택을 갖는다. 이처럼 플라즈마의 이용 분야는 무한한 가능성이 있다.

ƒ절. 이온침탄
① 장치 및 탄소농도 관리가 간편하다.

레포트 이온침탄과 이온질화 및 표면 경화질화jo 이온침탄과 이온질화 및 표면
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ƒ. 이온침탄이란
설명
순서
⑦ 변형의 발생이 적고 침탄층이 균일하다. 최근에는 반도체 제조 기술에 이온 주입이 응용되고 있다.④ 고탄소 및 복합 침탄이 가능하다.

이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화) 1절. 이온침탄 1. 이온침탄이...
③ 침탄 속도가 빠르고 침탄 효율이 높다.

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이온침탄은 플라즈마 침탄이라고도 하며, 약 900이상의 고온이 필요하기 때문에 외부 히터로서 가열된다 이 방법은 처리할 부품을 진공로에 장입하고 탄화수소 계 가스를 감압 분위기 중에서 가열해서, 음극에 놓여 있는 처리물과 전극 사이에 높은 전압을 걸어 글로우 방전이 생기게 하여 플라즈마를 발생시킨다.

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이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화)
이온침탄과 이온질화 및 표면 경화(질화) 1절. 이온침탄 1. 이온침탄이...
…. 이온침탄의 적용사례(instance)

⑤ 경제적이며, 環境(환경)이 improvement(개선)된다
다. 이때 글로우 방전에 의해 분위기 중의 탄소는 이온화되면서 큰 운동 에너지를 가진 이온([C]+)으로 되며, 이 탄소 이온이 처리물 표면에 충돌하여 내부로 침투하게 되면 침탄이 되는 것이다.

⑥ 탈탄 및 입계 산화층의 형성을 방지할 수 있다.

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